2024年11月18-21日，第十屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS2024）&第二十一屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA2024）、先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)應(yīng)用創(chuàng)新展（CASTAS）將在蘇州國際博覽中心G館舉辦。

KLA將攜多款產(chǎn)品亮相此次展會。值此，誠摯邀請第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)同仁共聚論壇，蒞臨C01 號展位參觀交流、洽談合作。

關(guān)于KLA

KLA是全球著名的半導(dǎo)體檢測設(shè)備供應(yīng)商，為半導(dǎo)體制造及相關(guān)行業(yè)提供產(chǎn)能管理和制程控制解決方案。公司總部在美國加州，自1976年成立以來不斷致力于產(chǎn)品的研究與發(fā)展，提供全世界客戶更完善及人性化的服務(wù)，并協(xié)助半導(dǎo)體（芯片）廠商創(chuàng)造高品質(zhì)、高效率的產(chǎn)質(zhì)。KLA InstrumentsTM是KLA旗下的子品牌，提供晶圓缺陷檢測和量測系統(tǒng)，及輪廓儀、納米壓痕儀、薄膜厚度儀、電阻測量儀等先進(jìn)產(chǎn)品。對于行業(yè)專家、學(xué)術(shù)界和其他創(chuàng)新者， KLA InstrumentsTM提供值得信賴的量測技術(shù)，助力世界實(shí)現(xiàn)技術(shù)上的突破性發(fā)展。?

KLA InstrumentsTM is a growing surface metrology group within KLA that caters to not just inspection and metrology needs in semiconductor fabs, but also provides material measurement solutions for research labs in academia and industry. Our portfolio of tools include stylus and optical profilers, nanomechanical testers, benchtop sheet resistance tools, thin film reflectometers and specialized defect inspection systems. KLA InstrumentsTM delivers trusted measurements, enabling the world’s breakthrough technologies.?

Candela? 晶圓缺陷檢測系統(tǒng)?

Candela? 采用專有的光學(xué)技術(shù)，其中包括散射光強(qiáng)、表面形貌、表面反射、相位變化和光致發(fā)光探測技術(shù)，可以對各種關(guān)鍵缺陷進(jìn)行自動檢測與分類。Candela? 化合物半導(dǎo)體應(yīng)用包括針對碳化硅晶圓缺陷檢測的8520和針對氮化鎵晶圓缺陷檢測的8720兩種型號。

Candela? 8520對碳化硅襯底和外延片的表面和晶體缺陷進(jìn)行檢測，如基平面位錯(cuò)、微管、堆疊層錯(cuò)、條形堆疊層錯(cuò)、晶界等晶體缺陷，以及對三角形、胡蘿卜形、滴落物和劃痕等表面缺陷進(jìn)行檢測分類。

Candela? 8720對氮化鎵外延片提供表面和光致發(fā)光缺陷進(jìn)行檢測，對外延層的裂紋、孔洞、凹坑和凸起進(jìn)行檢測和分類，并用于氮化鎵外延爐的工藝反饋。?

Zeta ? 光學(xué)輪廓儀?

Zeta ? 光學(xué)輪廓儀采用ZDot?技術(shù)和多模組光學(xué)系統(tǒng)，可測量透明與不透明、低至高反射率、光滑到粗糙的樣品，以及亞納米級到毫米級的臺階高度。它在化合物半導(dǎo)體上的應(yīng)用包括碳化硅襯底制備過程中的表面粗糙度測量，如晶棒、切割片、研磨片和拋光片（~nm- ?）；碳化硅襯底片正反面Wafer ID 激光打孔的深度和寬度自動測量；基于Candela?的缺陷檢測結(jié)果，對襯底和外延片的表面缺陷進(jìn)行缺陷追蹤定位和三維表征。?

參會聯(lián)系

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